TTXVN (BẮC KINH, ngày 11 tháng 10 năm 2019 / PRNewswire-AsiaNet / -
JA Solar đã đạt được thỏa thuận với Shin-Etsu Chemical của Nhật Bản để cấp phép quyền sở hữu trí tuệ của họ là sử dụng tấm silicon pha tạp Ga cho các ứng dụng pin mặt trời. Shin-Etsu Chemical nắm giữ một số bằng sáng chế về pha tạp Ga trong tinh thể silicon và sử dụng tấm silicon tinh thể loại p pha tạp Ga để chế tạo pin mặt trời. Một buổi lễ ký kết thỏa thuận chính thức đã diễn ra gần đây tại Tokyo, Nhật Bản, đã trao cho JA Solar một cách hiệu quả quyền sở hữu trí tuệ đối với các quốc gia và khu vực khác nhau mà các bằng sáng chế được đăng ký.
Người ta đã biết rằng các pin mặt trời sử dụng các tấm silicon loại p pha tạp boron từ lâu đã phải chịu suy thoái cảm ứng ánh sáng (LID) khi chiếu sáng ban đầu. Với việc áp dụng cấu trúc tế bào PERC trong những năm gần đây, vấn đề LID liên quan đến pin mặt trời làm từ tấm silicon pha tạp B trở nên nghiêm trọng hơn. Sử dụng tấm silicon pha tạp Ga có thể giảm thiểu một cách hiệu quả một vấn đề như vậy để đảm bảo hiệu suất của các mô đun PV được lắp ráp với pin mặt trời dựa trên tấm silicon loại p ổn định hơn và tốt hơn trong sản xuất năng lượng dài hạn.
Ông Jin Baofang, Chủ tịch Hội đồng quản trị của JA Solar, nhận xét rằng "sử dụng tấm silicon pha tạp Ga cho ứng dụng pin mặt trời chắc chắn mang lại hiệu quả tốt hơn cho các mô-đun pin mặt trời và PV, cũng như cải thiện độ tin cậy lâu dài của chúng. Là chủ sở hữu bằng sáng chế của một số công nghệ hàng đầu bao gồm công nghệ PERC hai chiều ở Trung Quốc và các quốc gia khác, JA Solar đã được hưởng lợi và luôn hỗ trợ bảo vệ việc trở sữu trí tuệ. Chúng tôi đánh giá cao việc Shin-Etsu Chemical cấp cho JA Solar quyền sở hữu trí tuệ của họ đối với công nghệ silicon tinh thể pha tạp Ga, đây là một bước quan trọng để JA Solar giới thiệu công nghệ tiên tiến và hỗ trợ bảo vệ quyền sở hữu trí tuệ của ngành. JA Solar sẽ tiếp tục phát triển và cung cấp các sản phẩm PV hiệu suất cao và các giải pháp năng lượng sạch cho khách hàng trên toàn thế giới thông qua cải tiến công nghệ và cải tiến hiệu suất liên tục. "
